一种原位制备NiO纳米片薄膜材料的方法

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一种基于原位生长在镍基体上制备NiO纳米片薄膜材料的方法,其主要步骤包括:首先,将金属镍基体清洗除尘、除锈、除油以获得清洁的镍表面;其次,配制水性电解液,原料为碳酸盐,其浓度为10‑300g/L;然后,将电解液放入反应釜中,同时将干净的镍基体浸入电解液中,并密封反应釜,再将反应釜置于马弗炉中在150‑250℃进行水热反应10‑96小时,使得金属镍表面发生氧化反应生成前驱体薄膜;最后,将水热后的电极取出、清净、干燥,并置于加热炉中在250‑500℃下进行脱水热处理,即获得原位生长的NiO纳米片薄膜材料。本发明原材料廉价、工艺简单、易于操作、生产成本低,所制备的NiO薄膜材料分布均匀、厚度可控,适合工业化大生产。

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